CN 41-1243/TG ISSN 1006-852X

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MPCVD金刚石涂层均匀性生长的数值模拟与实验研究

张斌华 简小刚

张斌华, 简小刚. MPCVD金刚石涂层均匀性生长的数值模拟与实验研究[J]. 金刚石与磨料磨具工程. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0211
引用本文: 张斌华, 简小刚. MPCVD金刚石涂层均匀性生长的数值模拟与实验研究[J]. 金刚石与磨料磨具工程. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0211
Numerical simulation and experimental study on the uniformity of MPCVD diamond coatings[J]. Diamond & Abrasives Engineering. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0211
Citation: Numerical simulation and experimental study on the uniformity of MPCVD diamond coatings[J]. Diamond & Abrasives Engineering. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0211

MPCVD金刚石涂层均匀性生长的数值模拟与实验研究

doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0211
基金项目: 国家自然科学基金;国家自然科学基金

Numerical simulation and experimental study on the uniformity of MPCVD diamond coatings

  • 摘要:   本文基于多物理场耦合仿真软件COMSOL Multiphysics微波等离子体模块建立了MPCVD反应腔内氢气等离子体的仿真模型,研究基底外侧增设的环状钼支架及其不同Δh(钼支架与基底的高度差)对基底表面等离子体分布的影响。采用变异系数对等离子体分布的均匀性进行定量分析,利用SEM表征对金刚石涂层表面形貌进行分析。研究结果表明,当Δh=0 mm时,等离子体分布的均匀性最佳,涂层形貌相较于无钼支架时明显提升。当Δh<0 mm时,等离子体分布的均匀性随Δh增大而提升;当Δh>0 mm时,等离子体分布的均匀性不增反降。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2023-10-01
  • 修回日期:  2023-11-23
  • 录用日期:  2023-12-06
  • 网络出版日期:  2023-12-11

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