CN 41-1243/TG ISSN 1006-852X

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面向天线反射面表面富树脂层的树脂精密抛光试验研究

刘建奇 康仁科 田俊超 董志刚 鲍岩

刘建奇, 康仁科, 田俊超, 董志刚, 鲍岩. 面向天线反射面表面富树脂层的树脂精密抛光试验研究[J]. 金刚石与磨料磨具工程. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2022.0044
引用本文: 刘建奇, 康仁科, 田俊超, 董志刚, 鲍岩. 面向天线反射面表面富树脂层的树脂精密抛光试验研究[J]. 金刚石与磨料磨具工程. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2022.0044
Experimental study on precision polishing of resin-rich layer on CFRP surface[J]. Diamond &Abrasives Engineering. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2022.0044
Citation: Experimental study on precision polishing of resin-rich layer on CFRP surface[J]. Diamond &Abrasives Engineering. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2022.0044

面向天线反射面表面富树脂层的树脂精密抛光试验研究

doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2022.0044

Experimental study on precision polishing of resin-rich layer on CFRP surface

  • 摘要: 针对新一代天线反射面对富树脂层表面的高质量加工需求,开展富树脂层抛光工艺试验,研究抛光时间、磨粒粒径、磨粒浓度、加载压力以及抛光转速对富树脂层表面粗糙度的影响规律。结果表明:在当前实验条件下,表面粗糙度随抛光时间的增加先减小后趋于稳定,随着磨粒粒径的增大而增大,随磨粒浓度的增加先减小后增大,随加载压力的增大而增大,随抛光转速的增加先减小后增大。在此基础上形成优化工艺参数组合,获得表面粗糙度Sa 4.73 nm的高质量富树脂层抛光表面。

     

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出版历程
  • 录用日期:  2022-06-27
  • 收稿日期:  2022-04-11
  • 修回日期:  2022-05-26
  • 网络出版日期:  2022-06-27

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